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                                                      芯片巨头美光:成功绕过了EUV光刻技术

                                                      作者:时间:2022-11-04来源:快科技收藏

                                                        本周宣布,采用全球最先进1β(1-beta)制造工艺的已经送样给部分手机制造商、芯片平台合作伙伴进行验证,并做好了量产准备。

                                                      本文引用地址:http://www.sylvia-camelo.com/article/202211/440032.htm

                                                        1β工艺可将能效提高约15%,存储密度提升35%以上,单颗裸片(Die)容量高达16Gb(2GB)。

                                                        一个值得关注的点是,称,1β绕过了(极紫外光刻)工具,而依然采用的是DUV(深紫外光刻)。

                                                        这意味着相较于三星、SK海力士,需要更复杂的设计方案。毕竟,的先进性很大程度上取决于每平方毫米晶圆面积上集成更多更快半导体的能力,各公司目前通过不断缩小电路面积来进行竞争。



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